Данный кристалл выполнен на основе GaAs pHEMT процесса с топологической нормой 0.25 мкм.
Основные параметры (при температуре окружающей среда +25 градусов)
НПК "Фотоника" рада представить Вашему вниманию новый переключатель на основе арсенида галлия, разработанный партнерским дизайн центром в России и произведенный на мощностях компании Win Semiconductors.
Данный кристалл выполнен на основе GaAs pHEMT процесса с топологической нормой 0.25 мкм.
Основные параметры (при температуре окружающей среда +25 градусов)
Вы находитесь на английской версии сайта. Перейти на русскоязычную версию сайта?